
電子行業(yè)專用超純水設備應用領域
電子制造應關注超純水水質,在大規(guī)模IC的超純水水質中,優(yōu)先關注的水質指標為:電阻率、微粒、TOC(總有機硅)、硅、堿金屬、堿土金屬、重金屬、溶解氧、在超純水中,細菌的影響與TOC、微粒基本相同,在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不純物質或微粒,將導致柵氧化膜厚度不均,產(chǎn)品圖形發(fā)生缺陷,耐壓性變差,超純水中的微量有機物會使產(chǎn)品結晶不良,在IC芯片制造過程中,與硅片接觸的水所含離子越多,對產(chǎn)品良率影響就越大。電阻率反映了超純水中離子的含量,超純水的電阻率越高,其純度也就越高。一般來講,在25℃時,理論純水的電阻率是18.25MΩ·cm。
應用領域:半導體材料、光電子產(chǎn)品、高科技精微產(chǎn)品超純水設備;
水源:市政自來水 水質要求:a、電阻率:≥18.2MΩ/cm
壓力:0.35MPa b、TOC: <10mg/L
溫度:25℃ C:Particle:<0.1μm
PH: 6-8 d:Particle:<0.2μm
有機物:(TOC)≤0.5 (建議為零) 重金屬:(Fe、Mn)≤0.01mg/L
工藝流程;
原水→預處理→保安過濾器→中間水箱→一級高壓泵→一級RO反滲透裝置→一級RO水箱→二級高壓泵→二級RO反滲透裝置→二級RO水箱→EDI增壓泵→EDI(CEDI)電去離子水系統(tǒng)→氮封水箱→核子級拋光混床→終端精密過濾器→UV紫外線殺菌→終端用水點。